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防反射膜、透镜以及摄像装置.pdf

摘要
申请专利号:

CN201580052924.9

申请日:

2015.09.07

公开号:

CN106796309A

公开日:

2017.05.31

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法?#19978;?#24773;: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/115申请日:20150907|||公开
IPC分类号: G02B1/115; B32B7/02; B32B17/00; C03C17/245; C03C17/34 主分类号: G02B1/115
申请人: 富士胶片株式会社
发明人: 高桥裕树; ?#22266;?#27589;
地址: 日本国东京都
优?#28909;ǎ?/td> 2014.09.30 JP 2014-202657
专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王?#21069;?
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法律状态
申请(专利)号:

CN201580052924.9

授权公告号:

||||||

法律状态公告日:

2018.11.06|||2017.06.23|||2017.05.31

法律状态类型:

授权|||实质审查的生效|||公开

摘要

本发明提供一种耐磨性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。在光学基材(11)的表面成膜碳氢膜(17),作为以高折射率层发挥功能的第1层(12)。在第1层(12)上成膜折射率低于第1层(12)的折射率的MgF2膜(18),作为以低折射率层发挥功能的第2层(13)。通过相同的方法形成包括碳氢膜(17)的第3层(14)、包括MgF2膜(18)的第4层(15)、包括碳氢膜(17)的第5层(16)。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜(17)以及MgF2膜(18)。在成膜碳氢膜(17)时,将氩和氢的混合气体供给至真空槽(22),将膜中的一部分C??C键取代为C??H键。通过C??H键获得耐磨性以及粘附性优异的低折射率的防反射膜(10)。

权利要求书

1.一种防反射膜,其形成于基材,从所述基材依次交替重叠有高折射率层和折射率低
于所述高折射率层的折射率的低折射率层,其中,
所述高折射率层包括在波长10.5μm中的折射率为1.7以上且2.25以下的碳氢膜,
所述低折射率层包括氟化金属的化合物膜,并且,
所述防反射膜是最上层包括所述碳氢膜的奇数层结构的防反射膜。
2.根据权利要求1所述的防反射膜,其中,
所述最上层的碳氢膜的含氢率ch在0[at.%]<ch≤7.5[at.%]的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的防反射膜,其中,
所述基材包括锗的组成比和硒的组成比的和为60%以上的硫属化合物玻璃。
4.根据权利要求2所述的防反射膜,其中,
所述基材包括锗的组成比和硒的组成比的和为60%以上的硫属化合物玻璃,是从所述
基材侧依次为第1层至第5层的5层结构,
所述第1层为碳氢膜,光学膜厚在2700nm以上且3100nm以下的范围内,
第2层为MgF2膜,光学膜厚在600nm以上且2100nm以下的范围内,
第3层为碳氢膜,光学膜厚在300nm以上且1700nm以下的范围内,
第4层为MgF2膜,光学膜厚在2200nm以上且3500nm以下的范围内,
所述第5层为碳氢膜,光学膜厚在100nm以上且300nm以下的范围内。
5.根据权利要求4所述的防反射膜,其中,
所述基材的波长10.5μm中的折射率在2.4以上且2.6以下的范围内,波长区域为8μm以
上且14μm以下的范围内的反射率为0.5%以下。
6.一种硫属化合物玻璃透镜,其具有权利要求1至5中任一项所述的防反射膜。
7.一种摄像装置,其具备至少1片硫属化合物玻璃透镜,所述硫属化合物玻璃透镜具有
权利要求1至5中任一项所述的防反射膜。

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反射 透镜 以及 摄像 装置
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