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一种触控面板以及触控显示装置.pdf

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一种 面板 以及 显示装置
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摘要
申请专利号:

CN201210594389.8

申请日:

2012.12.31

公开号:

CN103914163A

公开日:

2014.07.09

当?#33018;?#24459;状态:

授权

有效性:

有权

法?#19978;?#24773;: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G06F 3/041申请日:20121231|||公开
IPC分类号: G06F3/041 主分类号: G06F3/041
申请人: 上海天马微电子有限公司
发明人: 周星耀; 陈浩; 马骏
地址: 201201 上海市浦东新区汇庆路889号
优?#28909;ǎ?/td>
专利代理机构: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 马晓亚
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法律状态
申请(专利)号:

CN201210594389.8

授权公告号:

103914163B||||||

法律状态公告日:

2017.05.17|||2014.08.06|||2014.07.09

法律状态类型:

授权|||实质审查的生效|||公开

摘要

本发明提供了一种触控面板以及触控显示装置,所述触控面板包括:透明基板;形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层包括多条第一导电?#21450;?#21644;与所述多条第一导电?#21450;?#20132;叉的多条第二导电?#21450;福?#27599;一所述第二导电?#21450;?#34987;所述多条第一导电?#21450;?#20998;成多段;平铺于所述导电层上的色阻绝缘层,所述色阻绝缘层包括多个过孔;形成于所述色阻绝缘层上的金属桥接层,所述金属桥接层通过所述过孔将所述多段第二导电?#21450;?#36830;接在一起。采用本发明的技术方案,将色阻作为绝缘层以代替现有的有机膜层,避免了有机膜制程工艺带来的不良风险,简化了制程工艺并?#26723;?#29983;产成本。

权利要求书

权利要求书
1.  一种触控面板,其特征在于,包括:
一透明基板;形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层包括多条第一导电?#21450;?#21644;与所述多条第一导电?#21450;?#20132;叉的多条第二导电?#21450;福?#27599;一所述第二导电?#21450;?#34987;所述多条第一导电?#21450;?#20998;成多段;
平铺于所述导电层上的色阻绝缘层,所述色阻绝缘层包括多个过孔;
形成于所述色阻绝缘层上的金属桥接层,所述金属桥接层通过所述过孔将所述第二导电?#21450;?#30340;多段连接在一起。

2.  如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,所述触控面板还包括形成于所述透明基板与所述导电层之间的黑色矩阵层。

3.  如权利要求2所述的触控面板,其特征在于,所述导电层包括网格状金属层,所述网格状金属层被所述黑色矩阵层遮挡。

4.  如权利要求3所述的触控面板,其特征在于,所述导电层还包括与所述网格状金属层层叠的透明导电层。

5.  如权利要求4所述的触控面板,其特征在于,所述透明导电层为ITO或IZO。

6.  如权利要求1-5任一所述的触控面板,其特征在于,所述触控面板还包括形成于所述金属桥接层上的平坦化层。

7.  如权利要求1-5任一所述的触控面板,其特征在于,所述第一导电?#21450;?#20026;驱动电极,所述第二导电?#21450;?#20026;感应电极。

8.  如权利要求1-5任一所述的触控面板,其特征在于,所述第一导电?#21450;?#20026;感应电极,所述第二导电?#21450;?#20026;驱动电极。

9.  一种触控显示装置,其特征在于,包括:
TFT阵列基板;
与所述TFT阵列基板相对设置的如权利要求1所述的触控面板。

10.  如权利要求9所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控面板还包括形成于所述透明基板与所述导电层之间的黑色矩阵层。

11.  如权利要求10所述的触控显示装置,其特征在于,所述导电层包括网格状金属层,所述网格状金属层被所述黑色矩阵层遮挡。

12.  如权利要求11所述的触控显示装置,其特征在于,所述导电层还包括与所述网格状金属层层叠的透明导电层。

13.  如权利要求9-12任一所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控面板还包括形成于所述金属桥接层上的平坦化层。

14.  如权利要求13所述的触控显示装置,其特征在于,所述平坦化层与所述液晶层之间涂有配向层,所述配向层的材质为聚酰亚胺。

15.  如权利要求9所述的触控显示装置,其特征在于,所述TFT阵列基板与所述触控面板之间设置有液晶层。

说明书

说明书一种触控面板以及触控显示装置
技术领域
本发明涉及触控显示技术领域,尤其涉及一种触控面板以及触控显示装置。
背景技术
现有的电容式触控面板结构如图1所示,包括透明基板10、黑色矩阵层11、金属层12、ITO层13、有机绝缘层15、金属桥接层14、色阻绝缘层16以及保护层17。所述ITO层15用于形成感应电极和驱动电极,所述金属层12层叠于所述ITO层13的边缘,所述有机绝缘层15使所述感应电极与驱动电极之间绝缘,在所述有机绝缘层15打孔,使金属桥接层12能够搭接ITO层13,将断开的感应电极或者驱动电极连接起来。以上电容式触控面板结构?#26800;?#32477;缘层是通过有机膜实现的,在制程工艺中有机膜的涂布工艺相对困?#20122;?#23481;易?#26723;?#20135;品良率,因此需要一种能够替代有机膜的结构从而省去该有机膜的制程工艺,以提高产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提出一种触控面板以及触控显示装置,将色阻绝缘层作为绝缘层以代替现有的有机膜层,从而省去有机膜层制程工艺。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种触控面板,包括:
一透明基板;形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层包括多条第一导电?#21450;?#21644;与所述多条第一导电?#21450;?#20132;叉的多条第二导电?#21450;福?#27599;一所述第二导电?#21450;?#34987;所述多条第一导电?#21450;?#20998;成多段;
平铺于所述导电层上的色阻绝缘层,所述色阻绝缘层包括多个过孔;
形成于所述色阻绝缘层上的金属桥接层,所述金属桥接层通过所述过孔将所述第二导电?#21450;?#30340;多段连接在一起。
所述触控面板还包括形成于所述透明基板与所述导电层之间的黑色矩阵层。
所述导电层包括网格状金属层,所述网格状金属层被所述黑色矩阵层遮挡。
所述导电层还包括与所述网格状金属层层叠的透明导电层。
所述透明导电层为ITO或IZO。
所述触控面板还包括形成于所述金属桥接层上的平坦化层。
所述第一导电?#21450;?#20026;驱动电极,所述第二导电?#21450;?#20026;感应电极。
所述第一导电?#21450;?#20026;感应电极,所述第二导电?#21450;?#20026;驱动电极。
一种触控显示装置,包括:
TFT阵列基板;
与所述TFT阵列基板相对设置的如权利要求1所述的触控面板。
所述触控面板还包括形成于所述透明基板与所述导电层之间的黑色矩阵层。
所述导电层包括网格状金属层,所述网格状金属层被所述黑色矩阵层遮挡。
所述导电层还包括与所述网格状金属层层叠的透明导电层。
所述触控面板还包括形成于所述金属桥接层上的平坦化层。
所述平坦化层与所述液晶层之间涂有配向层,所述配向层的材质为聚酰亚胺。
所述TFT阵列基板与所述触控面板之间设置有液晶层。
采用本发明的技术方案,将色阻作为绝缘层以代替现有的有机膜层,避免 了有机膜制程工艺带来的不良风险,简化了制程工艺并?#26723;?#29983;产成本。
附图说明
图1是一种现有的触控面板结构剖面示意图;
图2(a)是本发明实施例一提供的触控面板俯视示意图;
图2(b)是图2(a)中某一触控单元的放大示意图;
图2(c)是图2(b)中触控单元a-a’处的剖面示意图;
图2(d)是图2(b)中触控单元b-b’处的剖面示意图;
图2(e)是本发明实施例一提供的一种优选的触控单元的放大示意图;
图2(f)是图2(a)或者图2(e)所示的触控单元进行平坦化后a-a’处的剖面示意图;
图2(g)是图2(a)或者图2(e)所示的触控单元进行平坦化后b-b’处的剖面示意图;
图2(h)是图2(a)或者图2(e)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后a-a’处的剖面示意图;
图2(i)是图2(a)或者图2(e)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后b-b’处的剖面示意图。
图3(a)是本发明实施例二提供的触控面板中黑色矩阵的分布示意图;
图3(b)是本发明实施例二提供的触控面板中某一触控单元的放大示意图;
图3(c)是图3(b)中触控单元c-c’处的剖面示意图;
图3(d)是图3(b)中触控单元d-d’处的剖面示意图;
图3(e)是图3(b)所示的触控单元进行平坦化后c-c’处的剖面示意图;
图3(f)是图3(b)所示的触控单元进行平坦化后d-d’处的剖面示意图;
图3(g)是图3(b)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后c-c’处的剖面 示意图;
图3(h)是图3(b)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后d-d’处的剖面示意图;
图4(a)是本发明实施例三提供的触控面板中某一触控单元的放大示意图;
图4(b)是图4(a)中触控单元e-e’处的剖面示意图;
图4(c)是图4(a)中触控单元f-f’处的剖面示意图;
图4(d)是图4(a)所示的触控单元进行平坦化后e-e’处的剖面示意图;
图4(e)是图4(a)所示的触控单元进行平坦化后f-f’处的剖面示意图;
图4(f)是图4(a)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后e-e’处的剖面示意图;
图4(g)是图4(a)所示的触控单元用于?#24230;?#26174;示装置后f-e’处的剖面示意图。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
本发明实施例提供的触控面板包括形成于透明基板上的导电层,所述导电层如图2(a)所示包括多条所述的第一导电?#21450;?1和与所述多条第一导电?#21450;?1交叉的多条第二导电?#21450;?2,每一所述第二导电?#21450;?2被所述多条第一导电?#21450;?1分成多段;金属桥接层23将所述被分开的第二导电?#21450;?#30340;多段连接在一起。所述触控面板以每一第二导电?#21450;?2的桥接部,即所述第二导电?#21450;?2与第一导电?#21450;?1的交叉部,作为一个触控单元,如图2(a)虚线区域所示,所述触控面板由多个所述触控单元构成,所述触控单元的局部示意图如图2(b)所示。
实施例一
图2(b)是本发明实施例一提供的触控面板中某一触控单元的俯视示意图,包括形成于透明基板上的导电层,所述导电层包括位于同一层的第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2彼?#31169;?#21449;设置。所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2形成后再平铺色阻绝缘层,通常所述色阻绝缘层由RGB三色色阻单元?#25910;?#21015;排布而成,当然?#37096;?#20197;是黑白色阻或RGBW色阻?#25910;?#21015;排布而成,不构成对本发明的限定。所述第一导电?#21450;?1为所述触控单元的驱动电极,第二导电?#21450;?2为所述触控单元的感应电极,此时需要通过金属桥接层23将断开的感应电极连接起来,在金属桥接区域要形成有色阻绝缘层,所述金属桥接区域的色阻绝缘层可以单独形成在色阻单元阵列?#26800;?#21508;色阻单元之间,亦可通过平铺色组单元阵列同时形成,用于使金属桥阶层23与所述第一导电?#21450;?1之间绝缘。
?#36816;?#36848;金属桥接区域的色阻绝缘层进行蚀刻形成过孔26。在所述金属桥接区域的色阻绝缘层上沿所述过孔26形成带状的金属桥接层23,所述金属桥接层23在过孔26处与第二导电?#21450;?2相接触,从而将位于第一导电?#21450;?1两侧的第二导电?#21450;?2连接起来。在所述第一导电?#21450;?1两侧的第二导电?#21450;?2的金属桥接区域的色阻绝缘层上分别蚀刻一个所述过孔26,即可通过所述金属桥接层23实现第二导电?#21450;?2的连接,亦可蚀刻出多个过孔26如图2(b)中所示,以使金属桥接层23与所述第二导电?#21450;?2之间形成多处接触从而确保桥接的可靠性。
图2(c)是图2(b)所示的触控单元中a-a’处的剖面图,包括透明基板20;形成于所述透明基板20上的导电层,所述导电层在图2(a)中a-a’处形成的是第二导电?#21450;?2;平铺于所述导电层上的色阻绝缘层24,所述色阻绝缘层24刻蚀有多个过孔以暴露出所述导电层的第二导电?#21450;?2;形成于所述色阻 绝缘层24上的金属桥接层23,所述金属桥接层23通过所述过?#23376;?#25152;述导电层的第二导电?#21450;?2相接触。图2(d)是图2(b)所示触控单元中b-b’的剖视图,包括透明基板20,形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层在b-b’处分别形成第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,所述第二导电?#21450;?2被第一导电?#21450;?1分为两段并通过金属桥接层23相连,金属桥接区域的色阻24使所述金属桥接层23与所述第一导电?#21450;?1绝缘。所述导电层材料为铟锡金属氧化物ITO或者铟锌金属氧化物IZO。
需要说明的是,金属桥接区域的色阻绝缘层并不限于采用如图2(c)和图2(d)中所示的色阻单元构成形式,可以是一个或多个色阻单元构成,色阻单元颜色?#37096;?#20197;?#25105;?#36873;择。
本实施例中所述第一导电?#21450;?1为所述触控面板的驱动电极,第二导电?#21450;?2为所述触控面板的感应电极。同理,该触控单元?#26800;?#19968;导电?#21450;?1作为感应电极,第二导电?#21450;?2作为断开的驱动电极?#20445;部?#36890;过上述方式将感应电极两侧的驱动电极桥接在一起。
所述色阻绝缘层24的厚度可以在1μm~4μm之间,优选为2.2μm;介电常数可以在2~4.5之间,优选为3.5。利用所述色阻绝缘层25代替了现有技术?#26800;?#26377;机膜使感应电极与驱动电极之间绝缘,从而省去了有机膜制程工艺,避免了有机膜制程对产品良率的影响。
本实施例的一种优选方式为如图2(e)所示的触控单元,在图2(b)的基础?#26174;?#21152;了另一条金属桥接层23’,所述新增加的金属桥接层23’,它的形成方法与原有的金属桥接层23相同,主要用来与原有的金属桥接层23之间互相作为备份以提高所述触控单元的可靠性。
通常,所述触控面板在使用时需要在图2(a)或者图2(e)所示的每个触 控单元上平铺一层平坦化层,平铺所述平坦化层后a-a’和b-b’处的剖面图分别如图2(f)和图2(g)所示,图?#26800;?#24179;坦化层25使表面形成有带状金属桥接层的色阻绝缘层表面趋于平坦,所述平坦化层材料为聚?#29616;?#31867;有机物,以使所述触控面板内部线路平坦化同时对内部线路可起到介电保护作用。
上述平坦化后的触控面板用于?#24230;?#24335;触控显示装置时a-a’和b-b’处的剖面图如图2(h)和图2(i)所示,将一TFT阵列基板26与上述触控面板相对设置,通常,所述触控面板?#26800;?#33394;阻绝缘层由RGB三种颜色色阻单元阵列而成,每一列色阻颜色相同并且每列色阻的宽度与TFT阵列基板上像素显示区域宽度相同,从而保证所述色阻绝缘层的颜色分布与TFT阵列基板上每列像素的显示颜色相同。因此所述色阻绝缘层在所述触控显示装置的像素显示区域还起到滤光作用,从而不需要在触控面板的透明基板20处再设置彩色滤光片。
对于液晶显示装置,所述触控面板与所述TFT阵列基板之间还设置有液晶层(图中未示出)。由于液晶分子在不同驱动电压下的反转不同会使感应电极和驱动电极对地的寄生电容产生变化,进而影响触控面板感应电极的感应效果,因此需要控制所述液晶层与触控面板中金属桥接层23的距离,该距离优选为4μm~6μm,在这个距离?#27573;?#20869;由于液晶分子反转带来的寄生电容变化最小,这个距离可通过预设所述平坦化层25的厚度来控制。
通常,所述平坦化层25与所述液晶层之间涂有配向层(图中未示出),所述配向层的材质为聚酰亚胺。所述配向层很薄,对上述液晶层与触控面板中金属桥接层23的距离的影响可以忽略不计。
本发明实施例一提供的触控面板还包括形成于透明基板与导电层之间的黑色矩阵层1,所述黑色矩阵层如图3(a)所示分布于像素显示区域之间,防止所述触控面板应用于显示装置时发生漏光。黑色矩阵内平铺有色阻单元阵列2, 所述色阻单元阵列2在像素显示区域起到滤光作用。另外,黑色矩阵1还遮挡住前文以及图2(a)-(i)所述的金属桥接区域,这样金属桥接区域的设置就不会?#26723;?#26174;示装置的开口率。
本发明实施例一提供的触控面板中,导电层为透明导电层,包括第一导电?#21450;?#21644;第二导电?#21450;浮?#26412;实施例提供的触控面板包括图3(a)所示的黑色矩阵层,遮挡所述金属桥接区域。
实施例二
图3(b)是本发明实施例二提供的触控面板中某一触控单元的俯视示意图,其?#26800;?#40657;色区域31和32所示的触控单元的导电层为网格状金属,并被上述黑色矩阵(如图3(a)所示)遮挡。所述触控单元包括形成于透明基板上的导电层,所述导电层包括位于同一层的第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2彼?#31169;?#21449;设置。所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2形成后再平铺色阻绝缘层,通常,所述色阻绝缘层由RGB三色色阻单元?#25910;?#21015;排布而成,当然?#37096;?#20197;是黑白色阻或RGBW色阻?#25910;?#21015;排布而成,不构成对本发明的限定。通过金属桥接层33将第一导电?#21450;?1两侧的所述第二导电?#21450;?2连接起来,需要在金属桥接区域形成色阻绝缘层,所述金属桥接区域位于黑色矩阵层的遮挡区域内。金属桥接区域的色阻绝缘层可单独形成于色阻单元之间的黑色矩阵遮挡区域,亦可在平铺色阻单元阵列时同时形成。对金属桥接区域的色组绝缘层进行蚀刻形成过孔36,在金属桥接区域的色阻绝缘层上沿所述过孔36形成带状的金属桥接层33,所述金属桥接层33在过孔36处与第二导电?#21450;?2相接触,从而将位于第一导电?#21450;?1两侧的第二导电?#21450;?2连接起来。
图3(c)是图3(b)所示的触控单元中c-c’处的剖面图,包括透明基板30;形成于所述透明基板30上的导电层,所述导电层在图3(a)中c-c’处形 成的是第二导电?#21450;?2;平铺于所述导电层上的色阻绝缘层35,所述色阻绝缘层35刻蚀有多个过孔以暴露出所述导电层的第二导电?#21450;?2;形成于所述色阻绝缘层35上的金属桥接层33,所述金属桥接层33通过所述过?#23376;?#25152;述导电层的第二导电?#21450;?2相接触。还包括形成于所述透明基板30与导电层的第二导电?#21450;?2之间的黑色矩阵层39,形成有金属桥接层33的金属桥接区域被所述黑色矩阵层39遮挡。图3(d)是图3(b)所示的触控单元中d-d’处的剖面图,包括透明基板30,形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层在d-d’处分别形成第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,所述第二导电?#21450;?2被第一导电?#21450;?1分为两段并通过金属桥接层33相连,金属桥接区域的色阻35使所述金属桥接层33与所述第一导电?#21450;?1绝缘;还包括形成于所述透明基板30与导电层的第二导电?#21450;?2之间的黑色矩阵层39。
需要说明的是,金属桥接区域的色阻绝缘层并不限于采用如图3(c)和图3(d)中所示的色阻单元构成形式,可以是一个或多个色阻单元构成,色阻单元颜色?#37096;?#20197;?#25105;?#36873;择。
通常,所述触控面板在使用时需要在图3(b)所示的每个触控单元上平铺一层平坦化层,平铺所述平坦化层后c-c’处和d-d’处的剖面图分别如图3(e)图3(f)所示,图?#26800;?#24179;坦化层37使表面形成有带状金属桥接层的色阻绝缘层表面趋于平坦。上述平坦化后的触控面板用于?#24230;?#24335;触控显示装置时c-c’处和d-d’处的剖面图分别如图3(g)和图3(h)所示,所述触控面板与TFT阵列基板38相对设置,对于液晶显示装置,还包括形成于所述TFT阵列基板38和所述触控面板之间的液晶层(图中未示出)。
本实施例中所述导电层可以是网格状金属层,用来形成所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,所述网格状金属层形成的第一和第二导电?#21450;?#34987;所述黑 色矩阵层39遮挡。
本发明实施例二提供的触控面板中,导电层为网格状金属层,包括第一导电?#21450;?#21644;第二导电?#21450;浮?#26412;实施例提供的触控面板同样包括图3(a)所示的黑色矩阵层,遮挡所述网格状金属层和金属桥接区域。
实施例三
图4(a)是本发明实施例三提供的触控面板中某一触控单元的俯视示意图,其?#26800;?#35302;控单元的导电层由网格状金属和透明导电层层叠而成(层叠顺序可以互换),并被黑色矩阵遮挡;黑色区域为网格状金属所覆盖的区域。也就是说,所述导电层?#26800;?#32593;格状金属层位于所述被黑色矩阵遮挡的区域内,与所述网格状金属层层叠的透明导电层的轮廓440如图中所示包围形成的导电?#21450;浮?#25152;述触控单元中形成于透明基板上的导电层包括第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2,所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2均包括网格状金属层和透明导电层的层叠结构,所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2彼?#31169;?#21449;设置。所述第一导电?#21450;?1和第二导电?#21450;?2形成后再平铺色阻绝缘层,通常,所述色阻绝缘层由RGB三色色阻单元?#25910;?#21015;排布而成,当然?#37096;?#20197;是黑白色阻或RGBW色阻?#25910;?#21015;排布而成,不构成对本发明的限定。通过金属桥接层43将第一导电?#21450;?1两侧的所述第二导电?#21450;?2连接起来,需要在金属桥接区域形成色阻绝缘层,所述金属桥接区域位于黑色矩阵层的遮挡区域内。金属桥接区域的色阻绝缘层可单独形成于色阻单元之间的黑色矩阵遮挡区域,亦可在平铺色阻单元阵列时同时形成。对金属桥接区域的色组绝缘层进行蚀刻形成过孔46。在金属桥接区域的色阻绝缘层上沿所述过孔46形成带状的金属桥接层43,所述金属桥接层33在过孔46处与第二导电?#21450;?2相接触,从而将位于第一导电?#21450;?1两侧的第二导电?#21450;?2连接起来。
图4(b)是图4(a)所示的触控单元中e-e’处的剖面图,包括透明基板40;形成于所述透明基板40上的导电层,所述导电层包括透明导电层440以及与所述透明导电层440层叠的网格状金属层441;平铺于所述导电层上的色阻绝缘层45,所述色阻绝缘层45刻蚀有多个过孔以暴露出所述导电层的第二导电?#21450;?2;形成于所述色阻绝缘层45上的金属桥接层43,所述金属桥接层43通过所述过?#23376;?#25152;述导电层的第二导电?#21450;?2相接触;形成于所述透明基板40与网格状金属层441之间的黑色矩阵层48,所述黑色矩阵层48用于遮挡所述网格状金属层441和金属桥接层43。图4(c)是图4(a)所示的触控单元中f-f’处的剖面图,包括透明基板40,形成于所述透明基板上的导电层,所述导电层包括网格状金属层441,以及与网格状金属层层叠的透明导电层440。所述第二导电?#21450;?#34987;第一导电?#21450;?#20998;为两段并通过金属桥接层43相连,金属桥接区域的色阻绝缘层45使所述金属桥接层43与形成所述第一导电?#21450;?#30340;网格状金属层441和透明导电层440绝缘;还包括形成于所述透明基板40与所述网格状金属层441之间的黑色矩阵层48。所述触控面板在使用时需要在图4(a)所示的每个触控单元上平铺一层平坦化层,平铺所述平坦化层后在e-e’和f-f’处的剖面图分别如图4(d)和图4(e)所示,图?#26800;?#24179;坦化层47使表面形成有带状金属桥接层的色阻绝缘层表面趋于平坦。上述平坦化后的触控面板用于?#24230;?#24335;触控显示装置时e-e’处和f-f’处的剖面图分别如图4(f)图4(g)所示,所述触控面板与TFT阵列基板49相对设置,对于液晶显示装置,还包括形成于所述TFT阵列基板49和所述触控面板之间的液晶层(图中未示出)。
本发明实施例三提供的触控面板中,导电层包括层叠的透明导电层以及网格状金属层。本实施例所述触控面板同样包括图3(a)所示的黑色矩阵层,用来遮挡所述网格状金属层和金属桥接区域。
采用本发明的技术方案,将色阻作为绝缘层以代替现有的有机膜层,避免了有机膜制程工艺带来的不良风险,简化了制程工艺并?#26723;?#29983;产成本。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护?#27573;?#24182;不局限于此,任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术?#27573;?#20869;,可轻易想到的变化或替换,?#21152;?#28085;盖在本发明的保护?#27573;?#20043;内。因此,本发明的保护?#27573;?#24212;该以权利要求的保护?#27573;?#20026;准。

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