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掩膜板及其制作方法.pdf

关 键 词:
掩膜板 及其 制作方法
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摘要
申请专利号:

CN201910043930

申请日:

20190117

公开号:

CN109628881A

公开日:

20190416

当前法律状态:

公开

有效性:

审中

法?#19978;?#24773;: 公开
IPC分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 主分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
发明人: 袁鹏程;翟中远;王永茂;曾望明;张文畅
地址: 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
优先权:
专利代理机构: 11243 代理人: 刘伟;张博
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法律状态
申请(专利)号:

CN201910043930

授权公告号:

法律状态公告日:

20190416

法律状态类型:

公开

摘要

本发明提供了一种掩膜板及其制作方法,属于显示技术领域。其中,蒸镀掩膜板,包括:开口部,对应于至少一个待蒸镀区域;遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域;所述遮挡部的表面设置有导流槽。本发明的技术方案能够防止掩膜板在清洗后残留药液。

权利要求书

1.一种蒸镀掩膜板,包括: 开口部,对应于至少一个待蒸镀区域; 遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域; 其特征在于,所述遮挡部的表面设置有导流槽。 2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板,其特征在于, 所述导流槽的深度为所述蒸镀掩膜板的厚度的30%-50%。 3.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。 4.根据权利要求3所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述第一导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘。 5.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽。 6.根据权利要求5所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述第二导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘。 7.一种蒸镀设备,其特征在于,包括如权利要求1-6中?#25105;?#39033;所述的蒸镀掩膜板。 8.一种蒸镀掩膜板的制作方法,所述蒸镀掩膜板包括:开口部,对应于至少一个待蒸镀区域;遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域,其特征在于,所述制作方法包括: 在所述遮挡部的表面形成导流槽。 9.根据权利要求8所述的蒸镀掩膜板的制作方法,其特征在于,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述在所述遮挡部的表面形成导流槽包括: 形成至少一个延伸方向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。 10.根据权利要求8所述的蒸镀掩膜板的制作方法,其特征在于,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述在所述遮挡部的表面形成导流槽包括: 形成至少一个延伸方向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽。

说明书


掩膜板及其制作方法
技术领域


本发明涉及显示技术领域,特别是指一种掩膜板及其制作方法。


背景技术


在OLED显示基板的制作过程中,需要利用蒸镀掩膜板蒸镀有机发光层以及公共
层,在OLED显示基板应用于显示装置时,显示装置上往往需要预留区域以设置摄像头、传感
器等元件,在蒸镀掩膜板?#20185;?#32622;有遮挡部对该预留区域进行遮挡,在利用蒸镀掩膜板蒸镀
完后,需要对蒸镀掩膜板进行清洗,但清洗后容易在遮挡部残留有清洗用药液,残留的药液
会对蒸镀腔?#19994;?#30495;空度产生影响,对下一次蒸镀产生影响,并且对于蒸镀掩膜板的防锈处
理也是极为不利的。


发明内容


本发明要解决的技术问题是提供一种掩膜板及其制作方法,能够防止掩膜板在清
洗后残留药液。


为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:


一方面,提供一种蒸镀掩膜板,包括:


开口部,对应于至少一个待蒸镀区域;


遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域;


所述遮挡部的表面设置有导流槽。


进一步地,所述导流槽的深度为所述蒸镀掩膜板的厚度的30%-50%。


进一步地,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述导流槽包括至少一个延伸方
向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。


进一步地,所述第一导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘。


进一步地,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述导流槽包括至少一个延伸方
向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽。


进一步地,所述第二导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘。


本发明实施例?#22266;?#20379;了一种蒸镀设备,包括如上所述的蒸镀掩膜板。


本发明实施例?#22266;?#20379;了一种蒸镀掩膜板的制作方法,所述蒸镀掩膜板包括:开口
部,对应于至少一个待蒸镀区域;遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域,所述
制作方法包括:


在所述遮挡部的表面形成导流槽。


进一步地,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述在所述遮挡部的表面形成导
流槽包括:


形成至少一个延伸方向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。


进一步地,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述在所述遮挡部的表面形成导
流槽包括:


形成至少一个延伸方向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽。


本发明的实施例具有以下有益效果:


上述方案中,遮挡部的表面设置有导流槽,这样在对遮挡部进行清洗后,利用风刀
对蒸镀掩膜板进行干燥时,导流槽的设置有利于清洗用药液的排走,从而减少残留在蒸镀
掩膜板上的药液量,避免对蒸镀和蒸镀掩膜板的防锈处理产生影响。


附图说明


图1为本发明实施例蒸镀掩膜板的俯视示意图;


图2为本发明实施例蒸镀掩膜板的截面示意图。


附图标记


1 蒸镀掩膜板


2 开口部


3 遮挡部


4 导流槽


41 第一导流槽


42 第二导流槽


具体实施方式


为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合
附图及具体实施例进行详?#35813;?#36848;。


本发明的实施例针对现有技术中清洗后容易在遮挡部残留有清洗用药液,残留的
药液随着蒸镀掩膜板进入蒸镀腔室,会对蒸镀腔?#19994;?#30495;空度产生影响,对下一次蒸镀产生
影响,并且对于蒸镀掩膜板的防锈处理也是极为不利的问题,提供一种掩膜板及其制作方
法,能够防止掩膜板在清洗后残留药液。


本发明实施例提供一种蒸镀掩膜板,包括:


开口部,对应于至少一个待蒸镀区域;


遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域;


所述遮挡部的表面设置有导流槽。


本实施例中,遮挡部的表面设置有导流槽,这样在对遮挡部进行清洗后,利用风刀
对蒸镀掩膜板进行干燥时,导流槽的设置有利于清洗用药液的排走,从而减少残留在蒸镀
掩膜板上的药液量,避免对蒸镀和蒸镀掩膜板的防锈处理产生影响。


如果直接对遮挡部进行开孔来排出药液,对于蒸镀会造成影响,并?#19968;?#26377;产品信
赖性风险,因此,本实施例中,在遮挡部的表面设计导流槽,导流槽并不贯穿遮挡部,这样对
于生产和良率产出没有影响。导流槽的设计一方面有利于清洗用药液的排走,减少残留在
蒸镀掩膜板上的药液量,另一方面由于清洗用药液较快排出,还可以?#26723;头?#20992;的工艺时间,
从而?#26723;蚑act Time(节拍时间)。


导流槽的深度如果设计的过大,会影响蒸镀掩膜板的结构强度;导流槽的深度如
果过浅,会影响导流效果,优选地,所述导流槽的深度为所述蒸镀掩膜板的厚度的30%-
50%。


一具体实施例中,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述导流槽包括至少一个
延伸方向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。在利用风刀对蒸镀掩膜板进行风干时,风向
一般与第一方向平行,因此,设置与第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽有利于清洗用药液的排出。


优选地,所述第一导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘,这样第一导流槽内的清洗用
药液可以经遮挡部的边缘脱离蒸镀掩膜板,更加有利于清洗用药液的排出,避免蒸镀掩膜
板上残留清洗用药液。


一具体实施例中,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述导流槽包括至少一个
延伸方向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽,这样在风刀对蒸镀掩膜板进行风干时,沿第
二方向滚动的药液?#37096;?#20197;经第二导流槽排出。


优选地,所述第二导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘,这样第二导流槽内的清洗用
药液可以经遮挡部的边缘脱离蒸镀掩膜板,更加有利于清洗用药液的排出,避免蒸镀掩膜
板上残留清洗用药液。


本实施例的掩膜板可以为FMM(精细金属掩膜板),?#37096;?#20197;为Open Mask(开放式掩
膜板)。


图1为本发明一具体实施例中蒸镀掩膜板的俯视示意图,图2为图1中的AA方向截
面示意图,如图1所示,蒸镀掩膜板1包括开口部2和遮挡部3,其中,在蒸镀掩膜板用以制作
手机的显?#37202;?#26102;,遮挡部3可?#36828;?#24212;于手机显?#37202;?#30340;异形区域,该异形区域用于设置手机的
摄像头、传感器等元件。如图1和图2所示,在遮挡部3的表面设置有多个导流槽4,导流槽4包
括沿第一方向排布的多个第一导流槽41以及沿第二方向排布的第二导流槽42,其中,第一
方向为遮挡部3的长度方向,第二方向为遮挡部3的宽度方向。在利用风刀对蒸镀掩膜板进
行风干时,风向一般与第一方向平行,因此,设置多个与第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽有利于
清洗用药液的排出。导流槽4的数量越多,越有利于清洗用药液的排出,但导流槽4的数量越
多也会影响蒸镀掩膜板的结构强度,进而影响蒸镀效果,优选地,本实施例中,可以设计有3
个第一导流槽41和1个第二导流槽42,?#19994;?#20108;导流槽42位于遮挡部3的中部。


本发明实施例?#22266;?#20379;了一种蒸镀设备,包括如上所述的蒸镀掩膜板。


本发明实施例?#22266;?#20379;了一种蒸镀掩膜板的制作方法,所述蒸镀掩膜板包括:开口
部,对应于至少一个待蒸镀区域;遮挡部,对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域,所述
制作方法包括:


在所述遮挡部的表面形成导流槽。


本实施例中,遮挡部的表面设置有导流槽,这样在对遮挡部进行清洗后,利用风刀
对蒸镀掩膜板进行干燥时,导流槽的设置有利于清洗用药液的排走,从而减少残留在蒸镀
掩膜板上的药液量,避免对蒸镀和蒸镀掩膜板的防锈处理产生影响。


如果直接对遮挡部进行开孔来排出药液,对于蒸镀会造成影响,并?#19968;?#26377;产品信
赖性风险,因此,本实施例中,在遮挡部的表面设计导流槽,导流槽并不贯穿遮挡部,这样对
于生产和良率产出没有影响。导流槽的设计一方面有利于清洗用药液的排走,减少残留在
蒸镀掩膜板上的药液量,另一方面由于清洗用药液较快排出,还可以?#26723;头?#20992;的工艺时间,
从而?#26723;蚑act Time(节拍时间)。


进一步地,所述遮挡部的长度方向为第一方向,所述在所述遮挡部的表面形成导
流槽包括:


形成至少一个延伸方向与所述第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽。在利用风刀对蒸镀掩
膜板进行风干时,风向一般与第一方向平行,因此,设置与第一方向平?#26800;?#31532;一导流槽有利
于清洗用药液的排出。


优选地,所述第一导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘,这样第一导流槽内的清洗用
药液可以经遮挡部的边缘脱离蒸镀掩膜板,更加有利于清洗用药液的排出,避免蒸镀掩膜
板上残留清洗用药液。


进一步地,所述遮挡部的宽度方向为第二方向,所述在所述遮挡部的表面形成导
流槽包括:


形成至少一个延伸方向与所述第二方向平?#26800;?#31532;二导流槽。


优选地,所述第二导流槽延伸?#20102;?#36848;遮挡部的边缘,这样第二导流槽内的清洗用
药液可以经遮挡部的边缘脱离蒸镀掩膜板,更加有利于清洗用药液的排出,避免蒸镀掩膜
板上残留清洗用药液。


具体地,在所述遮挡部的表面形成导流槽时,可以在遮挡部上涂覆一层光刻胶,对
光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,其中,光刻胶保留区域对
应遮挡部的导流槽之外的区域,光刻胶去除区域对应遮挡部的导流槽所在区域,对光刻胶
去除区域的遮挡部进行半刻蚀,形成导流槽,之后去除残留的光刻胶,即可得到本实施例的
蒸镀掩膜板。


除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具
有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一?#34180;ⅰ?#31532;二?#24065;?#21450;类似的?#35270;?#24182;
不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等
类似的?#35270;?#24847;指出?#25351;么是?#38754;的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件
及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的?#35270;?#24182;非限定于物理
的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上?#34180;ⅰ?#19979;?#34180;?br>“左?#34180;ⅰ?#21491;”等仅用于表示相对位置关系,?#21271;?#25551;述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关
系?#37096;?#33021;相应地改变。


可以理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”
时,该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下?#20445;?#25110;者可?#28304;?#22312;中间元件。


以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员
来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润?#25105;?br>应视为本发明的保护范围。


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